美国能源部两大国家实验室与NY Creates启动高数值孔径EUV微电子试点计划

AI生成概念示意图：以光学玻璃棱镜、石台上的芯片、牛皮纸研究档案夹与黄铜镊子表现极紫外光刻研发与微电子中试协同，并非真实光刻设备或实验室照片。

同步辐射X射线束线对接奥尔巴尼高数值孔径EUV光刻中心

美国能源部科学办公室下属的布鲁克海文国家实验室（BNL）、劳伦斯伯克利国家实验室（LBNL）与非营利半导体研发机构 NY Creates 于2026年11月5日联合宣布，正式启动微电子试点计划（发布编号 2026-23197），旨在降低芯片制造商、设备商与材料团队使用国家级重大科研设施的门槛。根据公告，三方团队已于2026年9月在纽约州奥尔巴尼纳米技术综合体（Albany NanoTech Complex）举行启动会议并完成设施考察，重点围绕光刻（包含低数值孔径与下一代高数值孔径极紫外光刻 High-NA EUV）和纳米计量两大领域开展竞争前研发，以支持超级智能（SI）等高能效微电子器件的开发。¹²

在设施分工上，布鲁克海文国家实验室提供国家同步辐射光源二期（NSLS-II，含硬X射线纳米探针束线 HXN）及功能纳米材料中心（CFN）的X射线散射、光谱与纳米尺度成像能力；该实验室拥有近3000名员工，每年接待逾5000名访问研究人员。劳伦斯伯克利国家实验室则贡献先进光源（ALS，含X射线光学中心 CXRO）与分子铸造厂（Molecular Foundry）在13.5纳米EUV图案化、软X射线同步辐射及科学计算方面的积累。NY Creates 则依托奥尔巴尼纳米技术综合体及其高数值孔径EUV光刻中心提供“从实验室到晶圆厂”（lab-to-fab）的中试桥梁，其生态体系汇聚逾2700名行业专家与学者，累计撬动公私投资逾250亿美元。¹²

AI实时叠层衍射成像实现每秒200幅重建，但试点未披露专项经费与商业流片时间表

作为微电子纳米计量的配套技术进展，布鲁克海文国家实验室于11月4日披露了由劳伦斯伯克利国家实验室牵头、纳入美国能源部“创世纪使命”（Genesis Mission）的跨实验室项目 SYNAPS-I（协同中子与光子科学—智能）。在 NSLS-II 的硬X射线纳米探针束线测试中，研究团队结合 NVIDIA Holoscan 边缘计算平台与 Meta 的分割模型 SAM3，仅使用常规断层扫描十分之一的数据量，即以每秒200幅图像的速度完成了三维微芯片结构的实时X射线叠层衍射（ptychography）重建，将原本需数周的离线分析压缩至束线实验运行期间实时完成。³

需要明确区分的是，11月5日宣布的微电子试点计划目前处于竞争前（pre-competitive）科研协同与工作流打通阶段：美国能源部科学办公室、两大国家实验室及 NY Creates 均未在公告中披露该试点计划的专项美元拨款数额，也未公布具体商业芯片制造企业的签约名单或量产流片时间表。同步辐射束线的高分辨率计量与实时AI重建能够加速光刻胶化学反应机理和纳米缺陷表征，但从实验室计量方法验证到商业晶圆厂良率提升仍取决于后续产业界项目的具体导入。¹²³

来源与说明

1. 2026-11-05 · DOE Labs and NY Creates Partner to Advance U.S. Microelectronics · 布鲁克海文国家实验室. ↩ ↩² ↩³

2. 2026-11-05 · DOE Labs and NY Creates Partner to Advance U.S. Microelectronics · NY Creates. ↩ ↩² ↩³

3. 2026-11-04 · Transforming How Scientists Study Advanced Microchips with AI · 布鲁克海文国家实验室. ↩ ↩²