Национальные лаборатории Минэнерго США и NY Creates запустили пилотный проект по литографии High-NA EUV и нанометрологии

Концептуальная иллюстрация, созданная ИИ: оптические стеклянные призмы, микросхема на каменном блоке, папка и латунный пинцет символизируют исследования в области EUV-литографии и микроэлектроники, а не реальное оборудование.

Синхротронные рентгеновские установки интегрируются с центром литографии High-NA EUV в Олбани

Брукхейвенская национальная лаборатория (BNL), Национальная лаборатория имени Лоуренса в Беркли (LBNL) и некоммерческая исследовательская организация NY Creates 5 ноября 2026 года объявили о запуске пилотной программы в области микроэлектроники (релиз 2026-23197) при поддержке Управления науки Министерства энергетики США (DOE). После стартовой встречи и осмотра мощностей комплекса Albany NanoTech Complex в штате Нью-Йорк в сентябре 2026 года инициатива призвана упростить производителям чипов, поставщикам оборудования и материаловедам доступ к доконкурентным исследованиям в двух ключевых областях: литографии (включая экстремальную ультрафиолетовую литографию с высокой числовой апертурой High-NA EUV) и нанометрологии для энергоэффективных процессоров систем сверхинтеллекта (SI).¹²

Каждый участник предоставляет специализированную инфраструктуру. Брукхейвенская национальная лаборатория задействует рентгеновское рассеяние, спектроскопию и наномасштабную визуализацию на синхротроне NSLS-II (включая линию жесткого рентгеновского нанозонда HXN) и в Центре функциональных наноматериалов (CFN); штат лаборатории насчитывает около 3000 сотрудников, а ее установки ежегодно принимают более 5000 приглашенных ученых. Лаборатория в Беркли предоставляет компетенции Центра рентгеновской оптики (CXRO) на синхротроне Advanced Light Source (ALS), центра Molecular Foundry и научного суперкомпьютинга. NY Creates обеспечивает технологический мост от лаборатории к фабрике (lab-to-fab) на базе комплекса в Олбани, объединяющего более 2700 специалистов и 25 млрд долларов государственных и частных инвестиций.¹²

ИИ-птихография достигает 200 изображений в секунду, но бюджет пилотной программы и сроки коммерческого выпуска не раскрываются

В развитие метрологического направления Брукхейвенская лаборатория 4 ноября 2026 года представила результаты межлабораторного проекта SYNAPS-I (Synergistic Neutron and Photon Science – Intelligence) под руководством лаборатории в Беркли в рамках программы Genesis Mission Минэнерго США. В ходе испытаний на линии HXN синхротрона NSLS-II с использованием платформы NVIDIA Holoscan и модели сегментации Meta SAM3 система выполнила трехмерную рентгеновскую птихографическую реконструкцию микрочипов со скоростью 200 изображений в секунду, используя лишь одну десятую стандартного объема томографических данных и сокращая время анализа с недель до режима реального времени.³

При этом объявленная 5 ноября пилотная программа имеет четкие рамки: речь идет о доконкурентных научных семинарах, согласовании исследовательских процессов и доступе к пользовательским установкам, а не о коммерческом производстве микросхем. Ни Управление науки Минэнерго США, ни две национальные лаборатории, ни NY Creates не раскрыли объем целевого финансирования пилота, список коммерческих заказчиков или график серийного выпуска чипов. Синхротронная метрология и ИИ-реконструкция ускоряют изучение фоторезистов и нанодефектов, однако перенос этих результатов в промышленное производство зависит от последующих отраслевых проектов.¹²³

Источники

1. 2026-11-05 · DOE Labs and NY Creates Partner to Advance U.S. Microelectronics · Brookhaven National Laboratory. ↩ ↩² ↩³

2. 2026-11-05 · DOE Labs and NY Creates Partner to Advance U.S. Microelectronics · NY Creates. ↩ ↩² ↩³

3. 2026-11-04 · Transforming How Scientists Study Advanced Microchips with AI · Brookhaven National Laboratory. ↩ ↩²